箱式氣氛爐是一種用于工業(yè)加熱處理的設備，主要用于金屬材料的熱處理、焊接和退火等工藝。根據工藝要求，箱式氣氛爐可以提供不同類型的氣氛控制。
根據氣氛控制的方式，箱式氣氛爐可分為以下幾種類型：
1. 氧化氣氛：在氧化氣氛下進行加熱處理，通常通過控制加熱爐內的氧氣濃度控制氣氛。
2. 還原氣氛：在還原氣氛下進行加熱處理，通常通過向爐腔內注入還原氣體，如氫氣、一氧化碳等，來實現還原氣氛控制。

3. 惰性氣氛：在惰性氣氛下進行加熱處理，通常通過控制爐腔內的氣氛成分，如氮氣、氬氣等，來實現惰性氣氛控制。
4. 混合氣氛：在爐腔內同時控制多種氣氛，以滿足復雜的工藝要求。
箱式氣氛爐的氣氛控制主要通過控制氣氛進出口、爐內氣氛循環(huán)和排放等方式實現。不同的氣氛控制類型適用于不同的加熱處理工藝和材料要求。